1200℃三溫區開啟式管式爐OTF-1200X-Ⅲ-S每個溫區分別由獨立的溫控系統控制，具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區多等特點。本機可通氣氛抽真空，操作簡單，安全可靠。

1200℃開啟式雙溫區管式爐OTF-1200X-IIZ高溫度可達到1200℃，并可通過調節兩個獨立的控溫程序，使爐管內溫度場形成一梯度。本機可用CVD方法來生長納米材料和制作各種薄膜。

1200℃開啟式管式爐OTF-1200X-5L是一款單溫區管式爐，爐管直徑Φ 5″，長1400mm ，Z高溫度可達到1200℃。本機可在各種氣氛保護下對樣品進行熱處理、沉積、燒結，是一款的實驗設備。

1200℃單溫區開啟式真空管式爐OTF-1200X是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業，在可控多種氣氛及真空狀態下，對金屬、非金屬及其它化合物進行燒結、熔化、分析而研制的設備。

1200℃開啟式立式爐OTF-1200X-80-VT是可垂直開啟式管式氣氛爐，能夠實現在真空或氣氛保護條件下對樣品快速升降溫。本機可垂直安裝在可移動的支架上，方便爐管的取放。

1200℃雙溫立式爐OTF-1200X-4-VT-II是雙溫區可垂直開啟式立式管式爐 廠家，其爐管直徑可制作為100mm，適合于在真空或氣氛保護環境下對樣品進行吊燒和淬火。爐體下端裝有一移動架，以便移動。