PCE-6V小型等離子清洗機集成了RF等離子體發生技術、計算機控制技術、軟件編程技術，采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。工作時外接一臺真空泵，清洗腔內的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，可短時間內*清洗掉有機污染物，清洗程度可達到分子級。樣品臺可選配加熱功能，可加負偏壓，用以實現對樣品的離子蝕刻。此外，其可在特定條件下根據需要改變某些材料表面的性能。設備體積小，操作簡單，應用廣泛。1、采用氣體作為清洗介質，避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。
2、可短時間內*清洗掉有機污染物。
3、清洗程度可達到分子級。
4、可在特定條件下根據需要改變某些材料表面的性能。
5、清洗過程中的輝光放電可對某些特殊用途的材料加強粘附性、相容性和浸潤性，并可消毒和殺菌。
6、樣品臺可選配加熱功能，可加負偏壓，用以實現離子蝕刻。
7、廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫學、微觀流體學等領域。