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| 品牌 | 其他品牌 | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 地礦 |
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍和兩個電源，一個射頻電源用于非導電材料的濺射鍍膜，一個直流電源用于導電材料的濺射鍍膜，可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，且具有體積小便于操作的優點，且可使用的材料范圍廣，是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。
1、配置兩個靶槍，一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜，應用廣泛。
3、體積小，操作簡便。
| 產品名稱 | VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀 | |
| 產品型號 | VTC-600-2HD | |
| 安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設備配有自循環冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設備腔室內需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶?6mm雙卡套接頭）及減壓閥 4、工作臺：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通風裝置：需要 | |
| 主要參數 | 1、電源電壓：220V 50Hz 2、功率：900W 3、腔體內徑：?300mm 4、極限真空度：9.0×10-4Pa 5、樣品臺加熱溫度：RT-500℃，精度±1℃（可根據實際需要提升溫度） 6、靶槍數量：2個（可選配其他數量） 7、靶槍冷卻方式：水冷 8、靶材尺寸：?2″，厚度0.1-5mm（因靶材材質不同厚度有所不同） 9、直流濺射功率：500W；射頻濺射功率：300W。（靶電源種類可選，可選擇兩個直流電源，也可選擇兩個射頻電源，或選則一個直流一個射頻電源） 10、載樣臺：?140mm，可根據客戶需求選配加裝偏壓功能，以實現更高質量的鍍膜。 11、載樣臺轉速：1rpm-20rpm內可調 12、工作氣體：Ar等惰性氣體 13、進氣氣路：質量流量計控制2路進氣，一路為100SCCM，另一路為200SCCM。 | |
| 產品規格 | 1、主機尺寸：500mm×560mm×660mm | |
| 序號 | 名稱 | 數量 | 圖片鏈接 |
| 1 | 直流電源控制系統 | 1套 | |
| 2 | 射頻電源控制系統 | 1套 | - |
| 3 | 膜厚監測儀系統 | 1套 | - |
| 4 | 分子泵（德國進口或者國產更大抽速） | 1臺 | - |
| 5 | 冷水機 | 1臺 | - |
| 6 | 聚酯PU管（?6mm） | 4m | - |
| 序號 | 名稱 | 功能類別 | 圖片鏈接 |
| 1 | 金、銦、銀、鉑等各種靶材 | （可選） | - |
| 2 | 可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜 | （可選） | - |
| 3 | 雙層旋轉鍍膜夾具 | （可選） |  |
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