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    GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀

    簡要描述:GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的Z簡單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備,適用于實(shí)驗(yàn)室各種復(fù)合膜樣品的制備,以及非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。

    • 產(chǎn)品型號:
    • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    • 更新時(shí)間:2023-04-24
    • 訪  問  量:2542

    詳細(xì)介紹

    品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間1-5萬
    產(chǎn)地類別國產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,地礦,電子/電池

    GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀在真空環(huán)境中利用粒子轟擊靶材產(chǎn)生的濺射效應(yīng),使得靶材原子或分子從固體表面射出,在基片上沉積形成薄膜的過程。屬于物理氣相沉積(PVD)制備薄膜技術(shù)的一種。設(shè)計(jì)而成的簡單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備,適用于實(shí)驗(yàn)室各種復(fù)合膜樣品的制備,以及非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀可用于實(shí)驗(yàn)室制備掃描電鏡樣品使用,且設(shè)備體積小巧,節(jié)約實(shí)驗(yàn)室空間;操作簡單,適合初學(xué)人員使用。1、設(shè)有真空表、濺射電流表,可實(shí)時(shí)監(jiān)控工作狀態(tài)。
    2、通過調(diào)節(jié)濺射電流控制器、微型真空氣閥,控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及選擇所需要的電離氣體,以獲得最佳鍍膜效果。
    3、鐘罩邊緣橡膠密封圈采用特殊設(shè)計(jì),可保證長期使用不出現(xiàn)玻璃鐘罩崩邊現(xiàn)象。
    4、陶瓷密封高壓電極接頭比通常采用的橡膠密封更經(jīng)久耐用。
    5、根據(jù)電場中氣體電離特性,采用大容量濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶,使濺射鍍層更均勻純凈。
    6、濺射頭采用Peltier制冷技術(shù),可得到高性能、精細(xì)顆粒的涂層。
    7、可用水冷濺射頭、水冷載物臺。

    產(chǎn)品名稱GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀
    產(chǎn)品型號
    GSL-1100X-SPC-16M
    安裝條件本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
    1、水:設(shè)備需選配自循環(huán)冷卻水機(jī)(加注純凈水或者去離子水)
    2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
    3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(帶減壓閥)
    4、工作臺:尺寸600mm×600mm×700mm,承重50kg以上
    5、通風(fēng)裝置:不需要
    主要參數(shù)
    1、靶:?50mm
    2、真空室:?160mm×120mm
    3、真空度:≤4×10-2mbar
    4、max電流:50mA(可選100mA)
    5、可設(shè)定極*:9999s
    6、微型真空氣閥:連接?3mm軟管
    7、極限電壓:1600V  DC
    8、機(jī)械泵:2L/s
    產(chǎn)品規(guī)格

    尺寸:360mm×300mm×380mm。
    整體重量:50Kg
    主機(jī)凈重:15Kg

    標(biāo)準(zhǔn)配件1、金靶材1個(gè)
    2、進(jìn)氣針閥1個(gè)
    3、保險(xiǎn)絲2個(gè)
    可選配件金、銦、銀、鉑等各種靶材



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