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    超聲噴霧熱解涂膜機(jī)

    簡(jiǎn)要描述:MSK-USP-04C超聲噴霧熱解涂膜機(jī)采用步進(jìn)電機(jī)和微處理器來控制容積泵來精確輸送溶劑。一個(gè)超聲波霧化器可以制備厚度較薄的微納米涂層,并且由一步進(jìn)電機(jī)控制可在X軸和Y軸方向移動(dòng),以確保涂層的均勻性。同時(shí)基底溫度可以進(jìn)行控制,以滿足實(shí)驗(yàn)需要。

    • 產(chǎn)品型號(hào):MSK-USP-04C
    • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    • 更新時(shí)間:2023-11-08
    • 訪  問  量:3145

    詳細(xì)介紹

    品牌其他品牌產(chǎn)地類別國產(chǎn)
    應(yīng)用領(lǐng)域化工,生物產(chǎn)業(yè),地礦

    MSK-USP-04C超聲噴霧熱解涂膜機(jī),噴膠機(jī)采用步進(jìn)電機(jī)和微處理器來控制容積泵,從而保證注射泵精確輸送溶劑,保證超聲噴霧過程的連續(xù)性。通過一個(gè)超聲波霧化器來制備厚度較薄的微納米涂層,并且由一個(gè)步進(jìn)電機(jī)控制噴霧器可在X軸和Y軸方向移動(dòng),且移動(dòng)速度可在一定范圍內(nèi)進(jìn)行調(diào)節(jié),以確保噴涂后的基片表面涂層的均勻性。MSK-USP-04C通過一個(gè)加熱平臺(tái)來控制基底溫度,從而加速薄膜的干燥速度,加熱平臺(tái)的加熱溫度可高達(dá)500℃,在此溫度范圍內(nèi)基本可以滿足絕大多數(shù)實(shí)驗(yàn)的需要。噴霧熱解制膜法,是將溶液霧化后噴涂到加熱的基底上,然后在基底上得到想得到的物質(zhì)結(jié)構(gòu)。此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物,而且在制備透明電極的應(yīng)用中已有相當(dāng)長(zhǎng)的歷史。現(xiàn)在這種方法在制備鈣鈦礦型太陽能電池中得廣泛應(yīng)用。

    產(chǎn)品名稱MSK-USP-04C超聲噴霧熱解涂膜機(jī),噴膠機(jī)
    產(chǎn)品型號(hào)
    MSK-USP-04C
    安裝條件本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
    1、水:不需要
    2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
    3、氣:設(shè)備噴頭為氣動(dòng)輔助,需配套空氣壓縮機(jī)或者氣瓶(含減壓閥)
    4、工作臺(tái):落地式設(shè)備,占地面積2m2以上
    5、通風(fēng)裝置:需要
    主要參數(shù)1、電源:220V  50Hz/60Hz

    2、超聲波霧化器:40KHz  100W

    3、噴霧器在X軸和Y軸上的行程:1mm-200mm
    4、噴霧器移動(dòng)速度:X軸方向10mm/s-800mm/s,Y軸方向10mm/s-100mm/s
    5、噴涂膠體顆粒大小: 10um-20um
    6、流量大小: 0.6pl~4ml/min
    7、固體含量要求: ≤ 10%
    8、粘度大小要求: ≤ 100cPs
    9、涂層間距:1mm-100mm
    10、Z軸高度max調(diào)節(jié)量:60mm


    11、加熱器平臺(tái)尺寸:350mm×220mm

    12、加熱溫度可高達(dá):500℃


    13、標(biāo)配注液器容積:20 ml

    14、注液器裝載:直徑不超過?30mm的注液器

    15、注液速度:0.1mm/min-45mm/min,微調(diào)速度0.01mm/min-8mm/min
    16、注液器行程設(shè)置范圍:0.001mm-120mm


    產(chǎn)品規(guī)格
    尺寸:主機(jī)1550mm×750mm×750mm,
    注射泵:250mm×225mm×170mm



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