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簡要描述：ME-L是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀，凝聚了科研團(tuán)隊(duì)在橢偏技術(shù)多年的投入，其采用行業(yè)前沿的創(chuàng)新技術(shù)，包括消色差補(bǔ)償器、雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制、穆勒矩陣數(shù)據(jù)分析等。可應(yīng)用于半導(dǎo)體薄膜結(jié)構(gòu)，半導(dǎo)體周期性納米結(jié)構(gòu)，新材料，新物理現(xiàn)象研究，平板顯示，光伏太陽能，功能性涂料，生物和化學(xué)工程，塊狀材料分析以及各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學(xué)納米光柵常數(shù)以及一維/二維納米光柵材料結(jié)構(gòu)的表
產(chǎn)品型號：廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時(shí)間：2019-02-15訪 問 量：3331詳細(xì)介紹
| 價(jià)格區(qū)間 | 面議 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
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產(chǎn)品型號 | ME-L全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀 | ||
主要特點(diǎn) | 1、采用氘燈和鹵素?zé)魪?fù)合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm) 2、可實(shí)現(xiàn)穆勒矩陣數(shù)據(jù)處理，測量信息量更大，測量速度快、數(shù)據(jù)更加精準(zhǔn) 3、基于雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器配置，可一次測量獲得全部穆勒矩陣的16個(gè)元素，相對傳統(tǒng)光譜橢偏儀可獲取更加豐富全面的測量信息 4、確保在寬光譜范圍內(nèi)，提供優(yōu)質(zhì)穩(wěn)定的各波段光譜 5、數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料 6、集成對納米光柵的分析，可同時(shí)測量分析納米結(jié)構(gòu)周期、線寬、線高、側(cè)壁角、粗糙度等幾何形貌信息 | ||
技術(shù)參數(shù) | 1、應(yīng)用：科研級/企業(yè)級 2、基本功能：Psi/Delta、R/T、穆勒矩陣等光譜 3、分析光譜：380-1000nm(支持?jǐn)U展至210-1650nm) 4、單次測量時(shí)間：1-8s 5、重復(fù)性測量精度：0.005nm 6、精度(直通測量空氣) 橢偏參數(shù):ψ=45±0.05°△=0±0.1° 穆勒矩陣:對角元素m=1±0.005；非對角元素m=0±0.005 7、光斑大小：大光斑2-3mm；微光斑200μm | ||
可選配置 | 波段選擇 V:380-1000nm UV:245-1000nm XN:210-1650nm DN+:193-2500nm 角度選擇 自動:45-90° 手動:55-75°(5°步進(jìn)),90° 固定:65° 其他選擇 Mapping選擇:100×100mm(供參考,按需定制) 溫控臺:室溫一600C(供參考,按需定制) | ||
可選配件 | 1 | 溫控臺 |
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2 | Mapping擴(kuò)展模塊 |
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3 | 真空泵 |
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4 | 透射吸附組件 | ||
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