平行板電容式PECVD

簡要描述：平行板電容式PECVD是一種用等離子體激活反應氣體,促進在基體表面或近表面空間進行化學反應,生成固態膜的技術。等離子體化學氣相沉積技術的基本原理是在高頻或直流電場作用下，源氣體電離形成等離子體，利用低溫等離子體作為能量源，通入適量的反應氣體，利用等離子體放電，使反應氣體激活并實現化學氣相沉積的技術。

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廠商性質：生產廠家
更新時間：2025-05-30
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品牌	其他品牌	產地類別	國產
應用領域	化工,電子/電池

平行板電容式PECVD是一種用等離子體激活反應氣體,促進在基體表面或近表面空間進行化學反應,生成固態膜的技術。等離子體化學氣相沉積技術的基本原理是在高頻或直流電場作用下，源氣體電離形成等離子體，利用低溫等離子體作為能量源，通入適量的反應氣體，利用等離子體放電，使反應氣體激活并實現化學氣相沉積的技術。該系統為單室等離子增強化學氣相沉積（PECVD）工藝研發設備，用于生長納米線或用CVD，方法來制作各種薄膜是一款新的探索工具。1、系統采用單筒式結構，手動前開門
2、高真空環境下進行沉積薄膜
3、不銹鋼腔體
4、樣品臺可轉動

產品名稱	平行板電容式PECVD
安裝條件	1、環境溫度：10℃～35℃ 2、相對濕度：不大于75% 3、供電電源：220V、單相、50±0.5 Hz 4、設備功率：小于4KW 5、供水：水壓0.2MPa～0.4MPa,水溫15℃～25℃， 6、設備周圍環境整潔，空氣清潔，不應有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導電的塵?；驓怏w存在。
主要參數	1、系統采用單室筒式結構，手動前開門； 2、真空室組件及配備零部件全部采用優質不銹鋼材料制造（304），氬弧焊接，表面采用噴玻璃丸+電化學拋光鈍化處理配有可視觀察窗口，并帶擋板，真空室尺寸為Φ300mm×300mm； 3、極限真空度：8.0x10-5 Pa (經烘烤除氣后，采用600L/S分子泵抽氣，前級采用4L/S)；系統真空檢漏漏率：≤5.0x10-7Pa.l/S；系統從大氣開始抽氣到8.0x10-4 Pa，40分鐘可達到；停泵關機12小時后真空度：≤20 Pa； 4、采用樣品在下，噴淋頭在上的電容式耦合方式進氣； 5、樣品最高加熱溫度：500℃，溫控精度：±1°C，采用溫控表進行控溫； 6、噴淋頭尺寸：Φ90mm，噴淋頭與樣品之間電極間距15-50mm在線連續可調（可根據工藝調整），并帶有標尺指數顯示； 7.、沉積工作真空：13.3-133Pa（可根據工藝調整）； 8、射頻電源：頻率 13.56MHz，最大功率300W全自動匹配； 9、氣體種類（用戶自備），標準配置為2路100sccm質量控制器，用戶可根據工藝更改氣路配置； 10、系統尾氣處理系統(用戶自備)。

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