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    UNIPOL-1210M型全自動金相磨拋系統

    簡要描述:UNIPOL-1210M型全自動金相磨拋系統,包含自動鑲嵌、研磨拋光以及清洗單元,可以實現從鑲嵌-取樣-研磨-清洗-拋光-清洗一體的全程序化自動流程,通過觸摸屏操作可精確控制鑲嵌到磨拋、清洗的所有參數,并能進行參數設定存檔,并可一鍵啟動程序,從而實現樣品自動化操作的一致性。且鑲嵌、磨拋、清洗單位均可以單獨或搭配靈活使用,適用于金屬、陶瓷、巖樣、電子器件等材料的重復性和一致性實驗,以及需要大批量制樣

    • 產品型號:
    • 廠商性質:生產廠家
    • 更新時間:2024-12-18
    • 訪  問  量:2051

    詳細介紹

    品牌其他品牌磨盤個數1個
    磨盤尺寸φ300mm轉速50-500rpm
    價格區間面議產地類別國產
    應用領域地礦,綜合
    產品簡介UNIPOL-1210M型全自動金相磨拋系統

    UNIPOL-1210M型全自動金相磨拋系統,包含自動鑲嵌、研磨拋光以及清洗單元,可以實現從鑲嵌-取樣-研磨-清洗-拋光-清洗一體的全程序化自動流程,通過觸摸屏操作可精確控制鑲嵌到磨拋、清洗的所有參數,并能進行參數設定存檔,并可一鍵啟動程序,從而實現樣品自動化操作的一致性。且鑲嵌、磨拋、清洗單位均可以單獨或搭配靈活使用,適用于金屬、陶瓷、巖樣、電子器件等材料的重復性和一致性實驗,以及需要大批量制樣的材料研究行業工作者。

    主要特點UNIPOL-1210M型全自動金相磨拋系統
    • 全自動鑲嵌+研磨拋光+清洗一次完成,節省人力。具有6個鑲嵌工位,Max同時完成6個試樣。

    • 可單獨使用鑲嵌或磨拋單元,也可鑲嵌/磨拋單元合并使用,靈活搭配。

    • 鑲嵌壓力、溫度、時間可任意調整,隨材質的不同變化。

    • 鑲嵌完成后,自動抓取樣品進行研磨拋光。過程中可自動更換不同粒度的研磨砂紙和拋光墊。

    • 研磨時,氣動單點加壓樣品,施力平均。

    • 研磨時,研磨盤上盤和下盤轉速可任意調整,具有低轉速高扭力的特點,方便使用。

    • 氣壓壓力通過節流閥控制和調整,根據樣品不同材質,任意調整所需壓力。

    • 配備多組滴料裝置,搭配使用,靈活性高。

    • 整機外殼鋼板烤漆,耐用安全性高。

    • 方便的觸控式人機操作界面,具備可編程的軟件系統及程序儲存。

    • 包含多種材料數據庫,可滿足對金屬、陶瓷、巖樣、電子器件等材料的重復性和一致性實驗。

    • 通過超聲和高壓水流實現對樣品進行清洗,確保下一道工序不會被上一道工序殘留物污染。

    技術參數UNIPOL-1210M型全自動金相磨拋系統
    產品名稱UNIPOL-1210M型全自動金相磨拋系統
    產品型號UNIPOL-1210M
    主要參數

    1、鑲嵌單元

    -單次熱鑲嵌個數:6個
    -熱鑲嵌直徑:30mm(高度不大于35mm)
    -驅動方式:全自動電動液壓
    -加熱溫度:180℃
    -加熱時間:1-30min
    -冷卻時間:1-30min
    -加熱功率:1200w
    -單工位壓緊力:220kg

    2、研磨拋光單元

    -研磨拋光盤采用真空吸附方式
    -研磨拋光盤數量:1個
    -研磨拋光盤尺寸:φ300mm
    -研磨拋光盤轉速:50-500rpm
    -載樣盤孔徑:φ30mm
    -載樣盤轉速:10-60rpm
    -多點中心加載壓力,通過節流閥控制和調整壓力
    -單個樣品Max加載力:1-5kg

    3、儲料單元

    -通過程序設置自動更換研磨砂紙和拋光墊
    -Max可儲存16組磨片和拋光片,更換順序可設定
    -通過真空吸附固定在研磨拋光盤上
    -通過程序可設置研磨/拋光時間和次數

    4、清洗單元

    -配備進水和排水
    -配備超聲清洗
    -配備高壓水流清洗
    -配備廢料回收裝置

    5、研磨拋光液配備

    -水、研磨膏×1
    -懸浮液×2
    -預留1通道

    6、其他

     

    -鑲嵌完成后,研磨頭自動抓取試樣至研磨拋光盤
    -研磨過程中自動更換不同粒度的砂紙(粗磨、細磨)
    -拋光過程中自動更換對應材質的拋光墊
    -自動滴加所需水或研磨拋光液
    -自動抓取試樣到清洗單元清洗
    -觸摸操作屏實時顯示各工序狀態
    -以上內容均可通過設置參數完成并儲存,一鍵啟動


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