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簡(jiǎn)要描述：VTC-600G高真空磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。可選配多個(gè)靶槍，配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜
產(chǎn)品型號(hào)：廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時(shí)間：2025-01-22訪 問 量：1528產(chǎn)品分類CLASSIFICATION
詳細(xì)介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
VTC-600G高真空磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600G高真空磁控濺射儀可選配多個(gè)靶槍，配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備，特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。
可選配多個(gè)靶槍，配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換）。
可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。
體積小，操作簡(jiǎn)便。
整機(jī)模塊化設(shè)計(jì)，真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計(jì)，可根據(jù)用戶實(shí)際需要調(diào)整。
可根據(jù)用戶實(shí)際需要選擇電源，可以一個(gè)電源控制多個(gè)靶槍，也可多個(gè)電源單一控制靶槍。
| 產(chǎn)品名稱 | VTC-600G高真空磁控濺射儀 | |
| 產(chǎn)品型號(hào) | VTC-600G | |
| 主要參數(shù) | 1、結(jié)構(gòu)：臺(tái)式前開門結(jié)構(gòu)，后置抽氣系統(tǒng)。 2、極限真空：6.0X10-5Pa。 3、漏率：1h≤0.5Pa。 4、抽氣時(shí)間大氣至5.0X10-3約20分鐘。 5、真空泵組：機(jī)械泵+分子泵。 6、樣品臺(tái):φ140、室溫-500℃、精度±1℃ （可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度） 自轉(zhuǎn)5rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)。 可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能， 以實(shí)現(xiàn)更高質(zhì)量的鍍膜。 7、加氣系統(tǒng)：質(zhì)量流量計(jì)2路。 （氬氣/氮?dú)飧饕宦罚?nbsp; 8、靶頭與樣品臺(tái)中軸線夾角為34° 9、靶頭數(shù)量：3個(gè)（互成120°）。 10、 靶槍冷卻方式：水冷 11、靶材尺寸：φ2″，厚度0.1-5mm （因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） | |
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 12、產(chǎn)品規(guī)格：
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| 序號(hào) | 名稱 | 功能類別 | 圖片鏈接 |
| 1 | 樣品臺(tái)擋板 | （可選） |  |
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