VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀

簡要描述：VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

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廠商性質：生產廠家
更新時間：2024-05-08
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品牌	其他品牌	價格區間	面議
產地類別	國產	應用領域	綜合

VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。單靶磁控濺射儀配備有一個靶槍，可選擇強磁靶或弱磁靶，弱磁靶用于非導磁材料的濺射鍍膜，強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，且具有體積小便于操作的優點，且可使用的材料范圍廣，是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。

1、一個靶槍，配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜或配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。
2、靶頭在樣品臺正下方，脆性靶材安裝更方便，樣品不易被污染。
3、可制備多種薄膜，應用廣泛。
4、體積小，操作簡便。

產品名稱	VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀
產品型號	VTC-16-1HD
安裝條件	本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設備配有自循環冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設備腔室內需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶Ø6mm雙卡套接頭）及減壓閥 4、工作臺：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通風裝置：需要
主要參數	1、電源電壓：220v 50Hz 2、功率：900W 3、腔體內徑：φ164mm 4、極限真空度:9.0×10-4Pa 5、樣品臺加熱溫度：RT-500℃，精度±1℃（根據實際需要提升溫度） 6、靶槍數量：1個（在真空室下方） 7、靶槍冷卻方式:水冷 8、靶材尺寸：φ2〞，厚度0.1-5mm（因靶材材質不同厚度有所不同） 9、樣品臺：φ86mm 10、樣品臺:1rpm-20rpm內可調。 11、直流濺射功率：500W；射頻濺射功率：300W。 12、開關蓋方式：自動升降上蓋。 13、工作氣體:Ar等惰性氣體。進氣氣路：質量流量計進氣，1-100SCCM可調。
產品規格	14、產品規格： ·尺寸：主機尺寸：750mm×450mm×1020mm 真空室規格：φ164×172mm ·重量：100kg
標準配件	1直流電源控制系統1套 2射頻電源控制系統1套 3分子泵（德國進口或者國產更大抽速）1臺 4冷水機1臺 5冷卻水管（Ø6mm）2根
可選配件	1、金、銦、銀、白金等各種靶材，可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。 2、膜厚檢測系統。

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