加熱臺主要用于VTC-600-2HD雙靶、VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀及GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀的樣品臺的加熱。

密封裝置主要用于在真空腔室上垂直安裝圓柱型元器件，安裝孔徑為19.2mm。

不銹鋼彎頭共2個接口，兩接口為90°垂直且共面分布，主要用于連接真空腔室與相關配件。

四通閥包含3個接口、1個閥門，呈垂直且共面分布，其中2個KF40接口、1個KF25接口（可根據(jù)用戶要求改制），主要用于連接真空腔室與分子泵及真空規(guī)管，如磁控濺射儀、蒸發(fā)鍍膜儀的高真空腔室。

VTC-16-3HD 3靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子薄膜濺射儀（直流普通型），控制面板采用觸摸屏模式，基片極限尺寸為2″，放置樣品的直徑為Ø50mm，加熱溫度達500℃?？蔀R射金、銀、銅三種靶材，不可以濺射輕金屬和碳。本機采用旋轉式樣品臺，能夠依次在同一樣品上涂覆三層薄膜，適用于實驗室制備復膜的樣品。采用PLC控制面

GSL-1100X-SPC-12等離子薄膜濺射儀專門為在基底上鍍金屬膜（如金、鉑、銦、銀等）而設計，Z大放置樣品尺寸直徑為40mm，膜厚可達300Å，特別適用于為SEM樣品鍍金而作為導電極。